设备图片

型号

EM RES102

制造商

徕卡显微系统有限公司

购置时间

2018年

主要技术指标

1.离子束能量调节范围：1keV~9keV。

2.垂直摆动距离≥±4mm。

3.可对SEM样品进行离子束抛光，加工尺寸≥20mm。

4.可对SEM样品进行离子束刻蚀，突出晶界或不同组分边界。

主要功能及应用范围

2.应用于减薄金属及非金属材料。

设备负责人

杨晓辉

联系方式

13319529824

设备地址

科技楼二层（预约电话：13453457581戴老师）