设备图片

型号

EM RES102

制造商

徕卡显微系统有限公司

购置时间

2018年

主要技术指标

1.离子束能量范围：1~10kV；

2.喷射角度0~20°；

3.可对TEM样品进行薄区加工，尺寸 直径3mm，厚度<40μm；

4.可对SEM+EBSD样品进行离子刻蚀，样品长/宽＜20mm，高度<10mm。

主要功能及应用范围

1.用于易氧化的金属样品或陶瓷样品的透射电镜制样。

2.用于块状/片状样品的EBSD制样，利用氩离子束刻蚀去掉表面机械、电解抛光等制样产生的影响。

设备负责人

高新丽

联系方式

180311254

设备地址

科技楼二层（预约电话：13453457581戴老师）